TALD系列原子層沉積系統(tǒng)是專門為先進(jìn)半導(dǎo)體工藝開發(fā)的薄膜沉積系統(tǒng)，已在國內(nèi)高校和科研院所裝機超百臺。以優(yōu)良的品質(zhì)，極高的可靠性，超長的使用壽命受到客戶的認(rèn)可，產(chǎn)品性能和售后服務(wù)得到用戶一致好評。
    獲取詳細(xì)的系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格，請與我公司銷售部門聯(lián)系。

關(guān)鍵詞: 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品附件：

立即咨詢

如果您對我們的產(chǎn)品感興趣，請留下您的電子郵件，我們將盡快與您聯(lián)系，謝謝！

提交留言